國林科技：公司暫未涉及光刻機業務

【財華社訊】10月29日，國林科技(300786.SZ)在互動平台表示，公司電子級超純臭氧氣體發生器可產生高濃度、大流量、高壓力的超潔淨臭氧，臭氧在電子工業領域可被廣泛用於形成CVD和ALD薄膜、氧化物生長、光刻膠去除和多種清潔應用；公司暫未涉及光刻機業務。